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紫外光UV光解除臭設(shè)備紫外光UV光解除臭設(shè)備利用光學(xué)原理設(shè)計(jì)了*的裝置處理工藝，使空間內(nèi)得以zui大限度地利用紫外線光催化反應(yīng)，使殺菌效果成倍提高。納米光氫離子CHO91G凈化裝置。 無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，設(shè)備風(fēng)阻低30pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
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橡膠廠紫外光催化氧化設(shè)備橡膠廠紫外光催化氧化設(shè)備采用先進(jìn)的氧化技術(shù)，突破單一體系的反應(yīng)局限，在整個(gè)反應(yīng)體系中，兩種氧化能力*的氧化劑-O3和·OH參與反應(yīng)及185nm高能量紫外線直接裂解廢氣，使得脫臭效果更佳，惡臭氣體礦化程度更高，可無害化排放，無二次污染。
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防爆型紫外光廢氣處理設(shè)備防爆型紫外光廢氣處理設(shè)備能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率zui高可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）和1996年頒布的《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》(GB16297-1996)。
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印染廠紫外光催化氧化設(shè)備印染廠紫外光催化氧化設(shè)備無任何機(jī)械動(dòng)作，無噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
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大型紫外光催化氧化設(shè)備大型紫外光催化氧化設(shè)備無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使工業(yè)廢氣通過本設(shè)備進(jìn)行分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
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