UV光解凈化設(shè)備定制工藝原理及說(shuō)明

1、UV光解光催化氧化凈化工藝

對(duì)于光解光催化氧化去除揮發(fā)性有機(jī)惡臭污染物的歷程一般認(rèn)為由以下兩步:

1）紫外線照射有機(jī)惡臭氣體分子鏈，將大分子切斷裂解成小分子;

2)臭氧對(duì)被裂解的小分子氣體進(jìn)─步氧化;

性能優(yōu)勢(shì)：

       1、除惡臭：能去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，凈化、脫臭效率較高可達(dá)99%以上，凈化、脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）．

UV光解凈化設(shè)備定制應(yīng)用范圍：

（1）適合處理各種惡臭廢氣、腐臭廢氣、噴漆廢氣、噴涂廢氣、電泳廢氣、電鍍廢氣、印刷印染廢氣、生物制藥廢氣、廢水污水臭氣廢氣、污泥臭氣處理等。

（2）可以處理各種廢氣，等離子不適合處理的廢氣（比如噴漆廢氣、噴涂廢氣、化工廢氣、含汽油酒精廢氣、含天那水廢氣、油漆廠廢氣、化肥廠廢氣等），如果采用UV光解設(shè)備，安全性更高。